產(chǎn)品分類
產(chǎn)品展示
關于我們

丹東正芯微電子科技有限公司成立于2006年,位于山川秀美的邊境城市遼寧丹東。是一家歷史悠久的生產(chǎn)、加工各種半導體工藝設備備品的高新民營企業(yè),是半導體設備國產(chǎn)化的中堅力量。產(chǎn)品應用于美國、日本、臺灣等地區(qū)的半導體設備國產(chǎn)化備件。公司有多位長期從事半導體行業(yè)的工作人員,聘請業(yè)內(nèi)行家作為本公司顧問,并與多家科研單位建立長期合作關系。


新聞資訊
  • 在半導體制造等領域,注入機離子源配件的穩(wěn)定性,直接關系到生產(chǎn)的效率與產(chǎn)品質(zhì)量。高穩(wěn)定性的注入機離子源配件,能大幅減少設備故障頻次,保障生產(chǎn)持續(xù)進行。接下來,為大家推薦幾款性能可靠的注入機離子源配件。
  • 不同類型的半導體設備配件,其更換周期受多種因素影響。像機械傳動類配件,如電機皮帶、齒輪等,因長期運轉(zhuǎn)磨損,通常每運行 3000 至 5000 小時便需檢查,若磨損程度超 20%,就應考慮更換。
  • 丹東半導體設備在薄膜沉積領域提供 PVD(物理氣相沉積)和 CVD(化學氣相沉積)兩種技術(shù)方案,廣泛應用于芯片制造、顯示面板等領域。本文從技術(shù)特點、適用場景及工藝優(yōu)勢出發(fā),解析丹東半導體設備的 PVD 與 CVD 技術(shù)如何滿足不同薄膜制備需求。
  • 丹東離子源配件的核心參數(shù)包括材料、尺寸和電氣性能。例如,陰極組件的材料選擇(如耐高溫合金)影響電子發(fā)射穩(wěn)定性,精密加工的表面結(jié)構(gòu)(如導流槽設計)確保束流均勻。
  • 蒸發(fā)臺坩堝的結(jié)構(gòu)設計是影響薄膜沉積均勻性的核心因素,直接關系半導體芯片、OLED 屏幕、光伏電池等精密器件的性能一致性。在真空蒸鍍工藝中,坩堝的形狀、導流設計及材料選擇共同構(gòu)建蒸發(fā)環(huán)境,本文從工程實踐角度解析其對薄膜質(zhì)量的影響。

離子源弧光室

蒸發(fā)臺配件

蒸發(fā)臺坩堝

聯(lián)系方式
聯(lián)系地址:遼寧省丹東市沿江開發(fā)區(qū)江灣工業(yè)園H區(qū)3號樓   聯(lián)系電話:0415-3196990 
公司傳真:0415-3196990   移動電話:139-42564601 
E-mail :zsunsale@163.com