您當(dāng)前的位置:  新聞資訊
  • 11
    2025-06
    操作人員每日需對蒸發(fā)臺配件進行外觀檢查,查看蒸發(fā)舟、坩堝是否存在破損、變形,觀察真空密封部件是否有漏氣跡象,并記錄加熱元件的工作溫度等參數(shù)。若發(fā)現(xiàn)異常,及時停機檢查,以便采取相應(yīng)措施。
  • 11
    2025-06
    材料選擇是生產(chǎn)質(zhì)控的首要環(huán)節(jié)。注入機離子源燈絲需采用高純度鎢、鉭等耐高溫且電子發(fā)射性能優(yōu)異的材料,生產(chǎn)前需對材料成分、純度進行嚴(yán)格檢測,確保其符合工藝要求。
  • 04
    2025-06
    某芯片制造企業(yè)在生產(chǎn)過程中,曾因注入機離子源配件的穩(wěn)定性不足,導(dǎo)致離子束流波動,影響芯片摻雜精度。企業(yè)技術(shù)團隊通過深入分析,發(fā)現(xiàn)是配件的核心部件燈絲損耗過快所致。
  • 04
    2025-06
    日常維護方面,定期對半導(dǎo)體設(shè)備配件進行清潔除塵是基礎(chǔ)工作。由于半導(dǎo)體制造環(huán)境對潔凈度要求極高,灰塵、雜質(zhì)附著可能干擾配件正常運作,需使用專業(yè)無塵工具,按規(guī)范流程進行清理。
  • 04
    2025-06
    丹東半導(dǎo)體設(shè)備在設(shè)計之初就充分考慮工藝適配性。在離子注入環(huán)節(jié),其設(shè)備能夠根據(jù)不同芯片制程對離子束流、注入角度的要求,靈活調(diào)整參數(shù),確保離子均勻注入晶圓,滿足不同工藝節(jié)點的摻雜需求。
  • 04
    2025-06
    在材料適配性方面,丹東離子源配件采用特殊耐高溫、耐腐蝕材質(zhì),能夠在半導(dǎo)體制造的高溫、高真空及強電場環(huán)境下穩(wěn)定運行。例如,其燈絲、弧光室等核心部件的材料,可有效抵御離子束轟擊產(chǎn)生的損耗,減少雜質(zhì)引入風(fēng)險,保障半導(dǎo)體器件的純凈度。
  • 04
    2025-06
    蒸發(fā)臺坩堝的材質(zhì)選擇是影響薄膜沉積質(zhì)量的重要因素。不同材質(zhì)的坩堝,在耐高溫、抗腐蝕等性能上存在差異。例如,石墨坩堝具有良好的導(dǎo)熱性與化學(xué)穩(wěn)定性,適用于多種金屬材料蒸發(fā);但在蒸鍍某些活潑金屬時,若坩堝材質(zhì)與蒸發(fā)材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng),會導(dǎo)致雜質(zhì)混入,影響薄膜純度與性能。
  • 30
    2025-05
    蒸發(fā)臺行星鍋的防濺射擋板設(shè)計需從結(jié)構(gòu)和材質(zhì)兩方面綜合考量。在結(jié)構(gòu)設(shè)計上,擋板的形狀、角度和安裝位置至關(guān)重要。例如,弧形擋板相較于平板式擋板,能更有效地改變?yōu)R射粒子的運動軌跡,將其反射回蒸發(fā)區(qū)域,減少材料向外飛散。
  • 30
    2025-05
    離子源弧光室的結(jié)構(gòu)設(shè)計與材質(zhì)選擇是影響離子束穩(wěn)定性的基礎(chǔ)因素。合理的弧光室結(jié)構(gòu)能夠確保內(nèi)部等離子體均勻分布,減少離子束的波動。例如,采用特殊形狀的內(nèi)壁設(shè)計,可優(yōu)化電場分布,避免局部電場過強引發(fā)離子束發(fā)散。
  • 30
    2025-05
    蒸發(fā)臺配件在薄膜制備過程中起著關(guān)鍵作用,其中蒸發(fā)臺電子槍配件更是直接影響蒸鍍材料的蒸發(fā)效率與沉積質(zhì)量。電子槍配件的性能由多項核心參數(shù)共同決定,深入了解這些參數(shù),對于優(yōu)化蒸發(fā)臺工作效能、保障薄膜制備精度至關(guān)重要。